반응형 fine metal mask1 FMM(Fine Metal Mask) 배경, 원리, 장점, 단점, 활용, 전망 **FMM(FINE METAL MASK)에 대해서** 등장배경: FINE METAL MASK(FMM)는 반도체 제조 공정에서 광학적 또는 전자파 기술을 사용하여 미세한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 장비입니다. 반도체 기술의 발전과 함께 반도체 칩의 미세화가 진행되면서, 더욱 정밀한 패턴이 필요해졌고, 이에 따라 FMM의 중요성이 증가하였습니다. 원리 FINE METAL MASK(FMM)의 원리는 광학학과 전자기학의 원리에 기반하고 있습니다. 이를 더 자세하게 설명하면 다음과 같습니다: 광학적 패턴 형성: FMM은 광학적 기술을 사용하여 반도체 웨이퍼 상에 원하는 미세한 패턴을 형성합니다. 이를 위해 먼저 미세한 금속 장판으로 구성된 마스크가 사용됩니다. 마스크의 패턴은 반도체 칩의 회로를 결정하는 데 .. 2024. 1. 17. 이전 1 다음 반응형